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    CVD,MOCVD專用丝瓜视频官网

    發布時間:2021/7/28點擊次數:2684
      CVD,MOCVD專用丝瓜视频官网由超純水機製取二級水,並儲存至水箱備用。丝瓜视频官网缺水時,自動供給至丝瓜视频官网。多台丝瓜视频官网可串聯使用,通過串聯控製線由一台發生器控製其他發生器,實現產氣均勻分配。(以兩台設備為例控製圖如下)

     


     
      CVD,MOCVD專用丝瓜视频官网產品特點:
     
      1.配備純水係統,完成自來水進水完成大流量的氫氣製備。
     
      2.儀器的全部工作過程均由程序控製,自動恒壓、恒流,通過串聯控製線,可實現多組並聯使用。
     
      3.安全可靠:配有安全裝置,電解超純水製氫,無腐蝕、無汙染,配有壓力控製,缺水自動監控,漏氣自動檢測。
     
      4.操作方便使用時隻需打開電源開關即可產氫,使用後無需泄壓,直接關閉電源即可。可連續使用,也可間斷使用,產氫量穩定不衰減。
     
      5.使用固態電解質(PEM)法產生氫氣,以超純淨水原料,以固體聚合物為電解質,貴金屬做電極有效的除濕裝置,降低了原始濕度,純度穩定。

     


     
      CVD,MOCVD專用丝瓜视频官网技術參數:
     
      1.氫氣純度: 99.9999-99.99999%
     
      2.氫氣流量:1L-17L/min
     
      3.輸出壓力:0-80psi(約0.5MPa)
     
      4.壓力穩定性:< 0.001MPa
     
      5.供電電源:220V±10% 50HZ
     
      6.消耗功率:8kw(HYDROGEN-17L)
     
      7.純水需求:>2MΩ&1L/h
     
      8.氫氣容積:<20L(HYDROGEN-17L)
     
      9.環境溫度:1-40℃
     
      10.相對濕度:<85%
     
      11.海拔高度:<2000米
     
      12.外形尺寸:80x90x100(WxDxH cm)(HYDROGEN-17L)
     
      13.淨重:約200kg(HYDROGEN-17L)

     

    CVD,MOCVD專用丝瓜视频官网

     


     
      MOCVD是一種新型的氣相外延生長技術,它是在氣相外延生長(VPE)的基礎上發展起來的,是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有機化合物和V、Ⅵ族元素的氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延,生長各種Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
     
      丝瓜视频官网在MOCVD中的廣泛應用:
     
      在MOCVD中,氫氣可以擔當載氣,將III(II)金屬有機物和V(VI)族氫化物以及摻雜源攜帶運輸到反應室內,為化學沉積反應和薄膜生長提供基礎,MOCVD要求氫氣純度≥99.999%(≥5N),進口壓力為4-7bar,而丝瓜视频官网所產氫氣可以符合這一領域的用氣需求。同時,氫氣純度穩定不變,減少了氫氣純度波動對設備的影響。
     
      除此之外,設備操作便捷,保障氫氣供應連續不間斷,用戶無需擔心氫氣用完,也無需和高壓氣體鋼瓶接觸,發生器自動運行,無需額外人工操作;發生器自動偵測自身工作狀態和錯誤,一旦偵測異常,發生器報警。
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